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超聲波清洗機在矽片行業中的應用
在半導體材料的製造過程中,包括清洗,清洗在內的每個過程都直接影響到下一個過程,甚至影響設備的成品率和可靠性。
晶圓生產每個過程中的潛在汙染都可能導致缺陷和設備故障。因此,超聲波清洗機設備的編輯說矽晶片的清洗吸引了專業人員的注意。許多製造商用手洗。一方麵,這種方法的人為因素是容易破裂和經濟衰退。另一方麵,用手清洗晶片表麵,汙染嚴重,並且在下一個步驟中拋出腐蝕的合格率低。矽晶片清洗技術已引起人們的關注,迫切需要找到一種簡單有效的清洗方法。我介紹了一種超聲波清洗技術。超聲波清洗設備的編輯說,晶片清洗效果顯著,是一種值得推廣的晶片清洗技術。
例如,顆粒,有機雜質,無機雜質,金屬離子,矽粉和灰塵會導致拋光的矽片容易產生花朵,從而改變頭發,藍色,黑色等,從而導致研磨失敗。晶片清潔的目的是去除各種汙染物。
超聲波清洗機(單個型號)
使用醫用超聲波清洗機代替人工手動清洗,也可以滿足人造手的要求。甚至蒸汽清洗高壓水射流也無法滿足小盲孔表麵上的不平整,因此超聲波清洗機的作用更加徹底。
傳統的手動清潔需要浸入酶,刷,漂洗或使用刷子機清潔某些瓶子。可以說這是費時費力的,並且人為因素的影響不能保證儀器清潔的質量。